半導體用超純水製造系統

簡介
因半導體產業的蓬勃發展，對超純水的需求日益增長，水質的要求也隨著高階製程的發展而提高。
超純水製造系統，將水源經過多道精密處理，去除水中所有雜質、離子、有機物等，製成比抵抗極高的純水。
這種高純度的水，是半導體製造過程中不可或缺的關鍵材料，直接影響晶片的良率和性能。

功能與用途

• 晶圓清洗：在晶圓製造的各個階段，超純水用於清洗晶圓表面，去除生產過程中產生的雜質，確保晶圓的潔淨度。
• 化學藥品調配：可用於調配各種化學藥品，配製所需的溶液，精準控制化學反應。
• 設備清洗：定期使用超純水清洗生產設備，防止雜質汙染，延長設備壽命。
• 實驗室用水：提供實驗室所需的超高純度純水，滿足各種實驗需求。

技術特性

• 多重過濾：採用多段處理單元，包括過濾、離子交換、RO逆滲透、去TOC等步驟，層層把關，確保出水水質。
• 精密控制：配備穩定的控制系統，即時監測水質，確保出水水質穩定。
• 模組化設計：模組化設計，靈活配置，亦可根據客戶的產能需求、水質和水量等要求進行客製。
• 節能環保：採用高效能的設備和材料，降低能耗，減少廢水排放，符合環境友善。

產品優勢

• 水質穩定：出水水質符合半導體產業的嚴格標準，確保產品品質。
• 操作簡單：人性化的操作界面，操作簡單，易於維護。
• 可靠耐用：採用高品質的材料和技術，確保設備的可靠性和耐久性。
• 客製化服務：提供專業的客製化服務，滿足客戶的不同需求。